Apple 開發高遷移率氧化物技術 以濺射工藝為優先選擇

Apple 正在開發用於下一代 OLED 面板的高遷移率氧化物（HMO）技術，目前在成膜方式上，優先考慮的是噴射工藝，最終的量產方案尚未確定。據外媒報導，Samsung 顯示與 LG 顯示兩家面板廠商都在同時推進噴射與原子層沉積（ALD）兩條路線。從技術特性看，ALD 在薄膜精度和特性控制上更具優勢，但設備和材料成本偏高；噴射則可以直接沿用現有 OLED 生產線的設備，成本壓力小得多。

因此，Apple 更傾向於先評估噴射方案的可行性。

HMO 被視作未來 MacBook、iMac 等高解像度 IT 用 OLED 的候選技術。目前高端 OLED 普遍採用 LTPO，即硅與氧化物半導體混用；如果 HMO 的性能足夠高，部分硅工序就可以被氧化物替代，隨之製程將簡化，生產成本也能降低。Samsung 顯示在開發噴射 HMO 的同時，亦在驗證 ALD 路線，重點是確認 Apple 要求的電子遷移率和可靠性，能否在大尺寸基板上同樣成立。

Apple 與面板廠商的合作正在推進新技術

據報導，Apple 先在自己的台灣研發設施內評估了相關技術，隨後請 Samsung 顯示確認其能否應用於第 8 代級別的大面積產線。LG 顯示則在第 6 代中小尺寸 OLED 產線上開發噴射 HMO，ALD 研究同步進行。去年該公司用 ALD 製備的氧化物 TFT 實現了約 40 ㎠/Vs 的電子遷移率，並展示了相應的 OLED 試製品。但考慮到新增設備投資帶來的負擔，LG 顯示同樣更看重重用現有噴射設備的方案。

HMO 的本質是提升 OLED 中薄膜晶體管（TFT）的性能，後者負責控制每個像素的開關與亮度。現有氧化物 TFT 的電子遷移率在 10 ㎠/Vs 左右，而 HMO 的目標是做到 30 至 50 ㎠/Vs。遷移率越高，能供給的電流越大，越有利於實現高解像度和高刷新率畫面。難點在於，器件階段達標還不夠，經過多道製程、經受溫度與光照後，成品面板仍需維持這一特性。

一位業內人士表示，兩家公司都在以噴射為優先，同時研究 ALD，「ALD 的性能優勢在研究階段已經得到驗證，但出於成本考慮，似乎還在噴射上做更多試驗」。

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