PetaRay與廣達合作推出具任意對焦深度的商用AR頭顯技術

PetaRay 與廣達合作推出了一款具備任意對焦深度技術的 AR 頭顯，產品已在 CES 2026 開放體驗。這款商用 AR 頭戴式顯示設備具備“真正任意對焦深度”功能，能夠將虛擬圖像在多個正確的對焦距離中呈現，而不是僅限於單一固定焦平面。該頭顯結合了 PetaRay 的專利 LiFiD 光場技術以及廣達的集成工程與大規模量產能力，旨在支持不斷擴張的新一代 AR 市場。

設備的核心是 PetaRay 的 LiFiD 光場技術。這項技術通過重構物理光線來生成任意對焦深度的視覺體驗，使虛擬內容能夠與任何距離（從近距離任務到遠場環境）的真實物體自然對齊。

PetaRay 指出，透過匹配數位元素與物理元素的對焦深度，這款頭顯能夠提供精確的空間對齊、連續的焦點以及真實的深度感知。這種精確的光線再現消除了視覺輻辏調解衝突，進一步增強了長時間使用時的視覺舒適度。

此技術的實現包括：

PetaRay 表示，廣達提供了一條從關鍵組件設計到基於批量生產的完整系統製造的“一站式”路徑，並擁有可擴展的精密組裝生產線。其光學引擎團隊提供先進設計、專有校準及可量產的光學架構，而頭顯團隊則專注於系統化設計與集成，實現了從原型到商用 AR 頭戴設備的無縫過渡。

這項解決方案適用於所有行業，包括醫療、工業、教育、現場作業、培訓和創意應用等領域。PetaRay 補充，目前正為致力於構建下一代 AR 的合作夥伴準備評估樣機，並於 CES 2026 以及未來的全球展會進行演示。