荷蘭光刻機巨頭 ASML 正以前所未有的速度擴大產能，以應對全球人工智慧基礎設施投資升溫帶來的先進光刻設備需求激增。據最新披露，ASML 預計今年至少生產 60 台 EUV（極紫外）光刻系統，比 2025 年銷售水準高出 36%，而下一階段年產能還將提升至至少 80 台。報導指出，ASML 在擴大整機產出的同時，也同步提升設備處理效率，包括升級讓部分機型每小時可處理更多晶圓，以進一步滿足晶片製造商對先進製程設備的迫切需求。
EUV 系統挑戰與產能擴張策略
不過，EUV 系統本就是當今製造業最複雜的設備之一，每台設備的組裝週期以月計，並高度依賴全球供應鏈。其核心工藝是利用雷射將錫融化轉化為極紫外光，再將極微細的電路圖案蝕刻到晶圓上，而哪怕是最小的氣氛汙染顆粒，也可能干擾整個製造流程，這使得產能擴張面臨天花板限制。為化解這些瓶頸，ASML 已在美国、德國和韓國擴建潔淨獨立產能，並計劃在荷蘭總部附近啟動一座新園區的建設，以支撐後續更大規模的生產佈局。
在資金開支方面，ASML 預計今年在晶圓、設備和基礎設施投入約 US$22 億，約 HK$171.6 億，高於去年水準。與此同時，公司亦增加工程師招聘與培訓投入，但荷蘭本地勞動力短缺仍是擴張過程中需面對的現實挑戰。為避免關鍵零件短缺拖累整機交付，ASML 還強化對供應鏈的管理。公司高層目前直接參與供應商協調工作，並透過定期溝通推動擴產節奏，因為任何一個關鍵部件缺失，都可能導致最終組裝停滯。
儘管 EUV 設備需求依舊強勁，但下一代高數值孔徑（High-NA）EUV 系統的導入前景存在一定不確定性。這類新設備能帶來更高解析度和生產效率，但成本亦顯著上升，促使晶片廠商選擇優先壓榨現有 EUV 平臺的性能，而非立即轉向新一代系統。對此，ASML 正為已安裝設備提供升級方案，以延長其性能與產出能力。 從更長遠視角看，ASML 還在研發更強的光源技術，期望進一步提升系統吞吐量。
雖然這些改進需數年時間才能全面部署，但隨着晶片設計持續微縮，這些技術被視為維持產業進步的關鍵一環。在業績預測方面，ASML 此前曾警示市場需求可能放緩，但公司已將全年銷售預測上調至 US$420 億至 US$470 億，約 HK$3276 億至 HK$3666 億。此增長預期反映大型科技企業持續推動 AI 相關產出，同時整個半導體行業亦在同步擴大投資規模。
即便如此，ASML 的增長仍受部分外部因素約束。客戶不僅需興建足夠規模的潔淨獨立空間，還須確保設備運作所需電力供應，而這些前期準備既耗時亦需大量資金投入。儘管存在這些限制，市場普遍預計未來數年 EUV 需求仍將保持強勁，ASML 亦正從產能、供應鏈和技術研發多個維度同步加速，以追趕不斷上升的市場需求。
