中國的半導體產業最近達成了一個重要的里程碑，據報導稱該國已經建造了首個極紫外光（EUV）原型機。EUV 光刻是一個複雜且保密的製造過程，能夠生產全球最先進的芯片。目前全球只有一家荷蘭公司 ASML 能夠掌握這項技術。美國一直努力阻止這項技術進入中國。但根據新的報導，中國似乎已經擁有了自己的國產先進芯片製造機器的原型。
目前，EUV 光刻機僅由荷蘭的 ASML 公司生產。然而，中國在過去幾年中一直在推動 EUV 的突破。根據 WCCFtech 的報導，中國的企業如中芯國際（SMIC）一直試圖通過挖角人才和逆向工程零部件來複製 ASML 的技術。現在，路透社的報導顯示，中國終於取得了突破，開發出自己的 EUV 光刻原型。報導指出，中國此次的突破依賴於舊的 ASML 零部件。ASML 之前曾因一名前中國工程師竊取商業機密而提起訴訟，並在 2019 年獲得了 8.45 億美元的判決。
隨著新技術的出現，中國的進展超出了專家的預期。今年四月，ASML 的首席執行官 Christophe Fouquet 表示，中國需要很多年才能開發出這種技術。EUV 光刻機的運作原理是基於數十年的全球研究，這些機器將強大的激光束對準一小滴熔融鍍錫，導致一場爆炸，產生大量紫外光，然後將光束引導到硅晶圓上。這使得 ASML 團隊能夠刻畫出細如 DNA 的電路。
到目前為止，只有 ASML 能夠建造能夠製造先進芯片的機器。根據該公司的網站，其在 EUV 研究與開發上投入超過 60 億歐元（約 $7.029 億美元）持續了 17 年。儘管中國取得了重要突破，但根據路透社的報導，目前尚未開始生產 EUV 芯片。然而，有消息稱該國目標是在 2030 年之前使 EUV 技術成為主流。在持續的人工智能熱潮下，美國和中國正在競相增強其芯片製造能力。在中國，華為正在與中芯國際合作建設一系列設施，而在美國，2022 年的 CHIPS 和科學法案則授權了約 2800 億美元的新資金，以振興國內的半導體製造。
