原始設計製造商 Kinko Optical 最近宣布，選擇採用 Beneq 的 C2R 等離子體增強空間原子層沉積（ALD）系統，以協助合作夥伴大規模生產用於衍射波導的高折射率、低損耗間隙填充光學鍍膜。
儘管如此，這些技術所創建的複雜 3D 納米結構對傳統的鍍膜方法提出了重大挑戰，傳統方法往往無法達到所需的性能。因此，先進的光學鍍膜對於提高效率、亮度和耐用性至關重要，並且能夠實現可擴展的高性能製造。Beneq 的 C2R 技術正是為了滿足這些需求，提供卓越性能，幫助製造商達到新一代 AR 設備的嚴格標準。 C2R 採用創新的旋轉式空間原子層沉積設計，能夠將前驅體在空間中分離，實現比傳統原子層沉積快 100 倍的沉積速率（高達 2,000 nm/h），同時保持卓越的均勻性和精度。該技術支持多種高折射率材料，包括 Al₂O₃、TiO₂、Ta₂O₅、HfO₂ 和多層堆疊結構，其可調折射率最高可達約 2.
61（TiO₂ 在 448 nm 波長處），光學損耗低至約 3 dB/cm。 其他主要優勢包括：低溫加工（低至 100°C），可兼容聚合物基底；可對複雜光柵進行共形間隙填充；以及零應力鍍層，應力控制範圍為 1,000 MPa 至 -200 MPa。原位寬帶監測可確保實時優化，從而能夠在不影響質量的前提下製造更厚的多層結構。這些能力與光學創新領域的節能、可持續製造和合規性等行業趨勢高度契合。 Kinko Optical 表示：「我們早已意識到原子層沉積技術在卓越的鍍膜質量、優異的保形性，以及能夠提供先進光學器件所需的高折射率、低損耗材料方面的巨大潛力。
借助 Beneq 的 C2R 技術，我們現在能夠實現性能與品質的完美平衡，將無與倫比的沉積速度與低溫工藝相結合，真正實現大規模生產，同時保持複雜結構的精度。這使我們能夠加速 AR 波導的商業化進程，並為下一代 XR 眼鏡提供沉浸式、無縫體驗。」
XR 行業的快速發展
隨著消費者對沉浸式體驗需求的增加，XR 行業正在迅速發展，特別是在 XR 眼鏡等消費電子產品中。近期，全球領先的科技公司和原始設備製造商在該領域投入巨資並進行創新。XR 眼鏡的核心是 AR 波導。為了獲得最佳效果，先進的表面浮雕光柵（SRG+）和納米壓印光刻（NIL）技術已成為當前主流的技術平台，能夠滿足消費級應用在性能、產量和成本方面的要求。儘管如此，這些技術所創建的複雜 3D 納米結構對傳統的鍍膜方法提出了重大挑戰，傳統方法往往無法達到所需的性能。因此，先進的光學鍍膜對於提高效率、亮度和耐用性至關重要，並且能夠實現可擴展的高性能製造。Beneq 的 C2R 技術正是為了滿足這些需求，提供卓越性能，幫助製造商達到新一代 AR 設備的嚴格標準。 C2R 採用創新的旋轉式空間原子層沉積設計，能夠將前驅體在空間中分離，實現比傳統原子層沉積快 100 倍的沉積速率（高達 2,000 nm/h），同時保持卓越的均勻性和精度。該技術支持多種高折射率材料，包括 Al₂O₃、TiO₂、Ta₂O₅、HfO₂ 和多層堆疊結構，其可調折射率最高可達約 2.
61（TiO₂ 在 448 nm 波長處），光學損耗低至約 3 dB/cm。 其他主要優勢包括：低溫加工（低至 100°C），可兼容聚合物基底；可對複雜光柵進行共形間隙填充；以及零應力鍍層，應力控制範圍為 1,000 MPa 至 -200 MPa。原位寬帶監測可確保實時優化，從而能夠在不影響質量的前提下製造更厚的多層結構。這些能力與光學創新領域的節能、可持續製造和合規性等行業趨勢高度契合。 Kinko Optical 表示：「我們早已意識到原子層沉積技術在卓越的鍍膜質量、優異的保形性，以及能夠提供先進光學器件所需的高折射率、低損耗材料方面的巨大潛力。
借助 Beneq 的 C2R 技術，我們現在能夠實現性能與品質的完美平衡，將無與倫比的沉積速度與低溫工藝相結合，真正實現大規模生產，同時保持複雜結構的精度。這使我們能夠加速 AR 波導的商業化進程，並為下一代 XR 眼鏡提供沉浸式、無縫體驗。」
