台積電高管指 ASML High-NA EUV 光刻機價錢過高 暫不採購

台積電副董事長魏哲家近日公開表態，公司現階段不會採購ASML最新High-NA EUV光刻機，主要原因是設備價格過高。該機型單台售價達35億歐元，折合人民幣約28億元人民幣，約 HK$30.52億，遠超業界現有設備水準。魏哲家直言新一代設備「非常非常貴」，並表示現有EUV設備仍能滿足當前生產與研發需求。

High-NA EUV規格與成本挑戰

這款光刻機是支撐1.4nm及以下先進製程的核心設備，解析度與製程能力明顯優於上一代，但成本同步大幅上升。其價格接近普通EUV設備的1.8倍，主要源於獨家光學組件、複雜光源系統與漫長調試週期，此外全球僅ASML能供應，進一步推高終端售價。 台積電並非完全放棄該技術，此前已採購少量設備用於研發，但不應用於量產。公司正透過工藝優化降低對新設備的依賴，近期公布A13與N2U兩項新工藝，分別計劃2029年與2028年投產，在不依賴新一代光刻機的情況下提升晶片效能、縮小面積，兼顧成本與性能。

作為ASML最大客戶，台積電採購態度將影響後續新設備量產節奏。ASML原計劃2027—2028年大規模量產High-NA EUV，並設定2030年營收目標，如遇主要客戶觀望將面臨挑戰。目前台積電資源開支壓力較大，資金優先進口3nm擴產、2nm研發與產能布局。